国内第一条FinFET芯片工艺生产线来了,总投资90亿美元

作者:宋仁彬 分类:科技产业 时间:2021-02-10 16:47
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FinFET工艺是intel在2011年的时候提出来,也叫做鳍式场效应晶体管,当时主要用于22nm的芯片制造中。

与之前的平面型MOSFET结构相比,FinFET晶体管可以大幅改善电路控制并减少漏电流(leakage),也可以大幅缩短晶体管的栅长,这样让芯片制程更先进。

后来看到这种晶体管的好处之后,台积电、三星等均跟进,而FinFET工艺术也不断推进,现在哪怕是在5nm的芯片中,台积电、三星均使用FinFET工艺,甚至台积电在3nm制程时,还会使用FinFET工艺,只有三星表示在3nm时要切换成GAAFET工艺。

但是,让人没有想到的是,这种在10年前就提出来的工艺,国内(大陆)却一直并没有真正的掌握,国内边一条FinFET工艺生产线都没有。

直到中芯量产了14nm技术之后,建立FinFET生产线才提上议程,毕竟中芯的14nm工艺也是基于FinFET技术的。

而近日,有媒体报道称,大陆第一条FinFET生产线要来临了,那就是中芯南方将在上海总投资90.59亿美元,建立12英寸芯片的SN1项目。

这个项目规划月产能 3.5 万片,已建设月产能6000片,是中国大陆第一条 FinFET 工艺生产线,也是中芯国际 14 纳米及以下先进工艺研发和量产的主要承载平台。

虽然说起来目前FinFET工艺,其实已经算是落后的工艺了,毕竟已经有10年之久了,但不管怎么样,对于本来就落后的中国芯片制造而言,也算是一种进步了。

而FinFET工艺用于14nm、10nm、7nm、5nm芯片,还是非常不错的技术,所以这条生产线建立,也是可以一直服务至5nm工艺。

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